堆代码讯 近日，日本首相高市早苗的言论令中日关系再度趋紧，随之有网络消息称日本政府已收紧用于晶圆生产的关键材料——光刻胶的对华出口管制，引发市场对中国大陆芯片产能或将受影响的担忧。据《商业时报》报道，日本企业占据全球光刻胶市场超过70%的份额，其中在高端EUV光刻胶领域更是控制着高达95%的市场。相比之下，中国大陆光刻胶产业因起步较晚，目前仍处弱势：Anue数据显示，2022年国产高端光刻胶的自给率仍低于5%。

报道进一步指出，在用于110–180纳米芯片制造的KrF光刻胶方面，中国大陆仅能满足约5%的自身需求；而在7–65纳米制程所需的ArF光刻胶上，则几乎完全依赖日本供应商。

多家日本企业被指可能涉及对华出口限制。《商业时报》称，合计占据全球约八成市场份额的信越化学与东京应化已暂停向部分中国大陆晶圆厂供应ArF光刻胶。不过，该报道引述的行业消息称，相关传闻可能源自信越化学因KrF光刻胶产能有限，而对部分中小型中国大陆企业供应收紧，从而引发市场猜测——尽管日本政府并未发布任何正式的出口禁令。

《亚洲时报》报道则提到，11月中旬前后，中国大陆社交媒体上曾出现未经证实的消息，称佳能、尼康及三菱化学已停止供应光刻胶。但报道指出该说法存在疑问：佳能与尼康主要生产光刻机及其零部件，而三菱化学提供的仅为光刻胶原料Lithomax。

若上述传闻属实，其影响可能十分严重。《商业时报》分析称，高端光刻胶保质期通常仅为三至六个月，因此难以大量囤积。一旦供应不稳定，中国大陆主要晶圆厂可能面临减产甚至全面停产的风险。2021年信越化学的暂时断供就曾导致中芯国际的产能利用率下降约20%。

为应对潜在制裁风险，中国大陆正积极提升光刻胶自主供应能力。《亚洲时报》报道指出，尽管目前仍以进口为主，但根据Anue的数据，中国大陆目标在2026年将光刻胶自给率提高至40%，较2024年约10%的国产化率大幅提升。报道还提到，科华已研发出用于45纳米芯片的KrF光刻胶，北京大学团队也在提升光刻胶稳定性方面取得进展，正逐步推动其从28纳米向更先进制程延伸应用。

此外，《商业时报》披露，中国大陆已于2023年10月推出首项EUV光刻胶测试标准，旨在建立更清晰的技术框架。报道称，政府正在引导国家集成电路产业投资基金二期重点投向光刻胶等关键材料领域，并推动国内晶圆厂优先采用符合条件的本土供应商。